В невырожденных полупроводниках
Рассмотрим неоднородно легированный невырожденный полупроводник n-типа в состоянии диффузионно-дрейфо-
вого равновесия. Концентрация свободных электронов в таком материале в одномерном приближении будет выражаться формулой (1.5.34)
. (1)
Найдём производную от концентрации свободных электронов по координате
. (2)
Выразив из (2) производную электростатического потенциала по координате, найдём проекцию на ось ОХвектора напряжённости встроенного (диффузионного) электрического поля
, (1.5.38)
где использовано обозначение для так называемого теплового потенциала φТ = kT/q.
Получим выражение для концентрации нескомпенсированного заряда в области существования диффузионного электрического поля. Согласно первому уравнению Максвелла для рассматриваемого одномерного случая имеем
, (3)
где ρ – объёмная плотность нескомпенсированного заряда, ε –относительная диэлектрическая проницаемость полупроводника, εо = 8,85∙10-14 Ф/см – электрическая постоянная. Подставив в (3) под знак производной выражение (1.5.38) для напряжённости диффузионного поля, получим формулу для определения объёмной плотности заряда в неоднородно легированном полупроводнике в состоянии диффузионно-дрейфового равновесия
. (4)
Выполнив дифференцирование, окончательно получим
. (1.5.39)
Формулы (1.5.38) и (1.5.39) показывают, что встроенное диффузионное поле и сопутствующая плотность объёмного заряда тем больше, чем резче меняется концентрация основных носителей и чем меньше эта концентрация в окрестности выбранной точки исследования.